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考研模电·零基础讲义 第04讲(上)|BJT 的结构与放大原理

约 22 分钟 7383 字 华南师范大学模拟电子技术考研模电零基础讲义

考研模电·零基础讲义 · 第 04 讲(上)|BJT 的结构与放大原理 学完这一讲,你能说清三极管(BJT)"三区两结"的结构,知道它放大时两个 PN 结要怎么偏置,能用IE=IB+ICI_E=I_B+I_C⁠、IC≈βIBI_C\approx\beta I_B做电流计算,还能根据测得的电位或电流认出管脚和管型。预计用时 90 分钟。

本讲地图

  • 结构:NPN、PNP 两种;"三区"(发射区、基区、集电区)、"两结"(发射结、集电结)、"三极"(e、b、c);三个区的特点决定了它能放大。
  • 放大的外部条件:发射结正偏、集电结反偏。换成电位就是 NPN:VC>VB>VEV_C>V_B>V_E⁠;PNP:VC<VB<VEV_C<V_B<V_E⁠。
  • 内部原理:发射区"发射"电子 → 基区少量"复合" → 集电区"收集"。由此得到电流关系IE=IB+ICI_E=I_B+I_C⁠、IC≈βIBI_C\approx\beta I_B⁠、β=α1−α\beta=\dfrac{\alpha}{1-\alpha}⁠。
  • 三种连接方式:共射、共集、共基,后面几讲的三种放大电路就是从这里来的。
  • 华师怎么考:考纲要求"双极晶体管的基本结构和工作原理";2026 回忆题 1(3) 考"判断 BJT 的工作状态",第 2 题整道题都是 BJT 放大电路。本讲是这些题的地基。
  • 教材对应:第 5 章 5.1.1~5.1.2 节。
  • 重要度:⭐⭐⭐ 必考核心 / ⭐⭐ 理解 / ⭐ 了解。本讲最该下功夫的是第二、三、五、六节和 4.4 的答题模板。

前置知识

  • 电压、电流、电位、KCL(流进一个节点的电流之和等于流出的):见第 01 讲(上)。
  • PN 结的单向导电性、正偏与反偏、多子与少子、扩散与漂移:见第 02 讲。
  • 二极管导通压降(硅约 0.7 V,锗约 0.2~0.3 V):见第 03 讲(上)。

一、为什么需要三极管? ⭐

1.1 大白话:一个"用小水流控制大水流"的阀门

二极管只有两个脚,它能做的事是"单向放行",像一个止回阀。可是电子技术里最想要的是放大:话筒送出来的电压只有几毫伏,要把它变成能推动喇叭的几伏、几十伏。

放大不是"凭空变出能量"。打个比方:自来水管里的水压很大(相当于电源),水龙头的把手只要轻轻一拧(相当于微弱的输入信号),就能控制一大股水流(相当于输出电流)。你手上花的力气很小,水流的变化却很大——这就是"放大":用一个小的变化,去控制一个大的变化,能量来自电源。

三极管就是电子世界里的"水龙头":

  • 基极 b 相当于把手:流进去的电流很小(微安级);
  • 集电极 c → 发射极 e 相当于主水路:流过的电流大(毫安级);
  • 把手(基极电流)稍稍变化,主水路电流就跟着按比例大幅变化。

BJT 的全称是 Bipolar Junction Transistor,双极结型晶体管,俗称半导体三极管、晶体管。"双极"是指它里面电子和空穴两种载流子都参与导电(第 10 讲要学的 MOS 管只靠一种载流子,叫"单极型")。

1.2 先认识一套符号约定(整个模电都在用)⭐⭐⭐

这一小节虽然在"大白话"一节里,但它是后面所有计算题的基础,写错大小写在阅卷时会被认为概念不清。

模电里同一个量会同时有"直流部分"和"交流部分",教材用字母大小写区分,第一次见到一定要记住:

写法 例子 含义
大写字母 + 大写下标 IBI_B⁠、VCEV_{CE} 直流量(静态值)
小写字母 + 小写下标 ibi_b⁠、vcev_{ce} 交流量(叠加在直流上的变化部分)
小写字母 + 大写下标 iBi_B⁠、vCEv_{CE} 总瞬时值 = 直流 + 交流,如iB=IB+ibi_B=I_B+i_b
大写字母 + 小写下标 VbeV_{be}⁠、IcI_c 交流量的有效值或振幅

本讲只讲直流原理,所以大部分是IBI_B⁠、ICI_C⁠、IEI_E⁠、VBEV_{BE}这类"大写+大写"的直流量。下标里的 B、C、E 就是基极、集电极、发射极;两个字母的电压下标表示"前一个极对后一个极的电压",例如VBEV_{BE}(读作"V-B-E")就是基极对发射极的电压=VB−VE=V_B-V_E⁠。


二、BJT 的结构:三区、两结、三极 ⭐⭐⭐

2.1 大白话:两个"背靠背"的 PN 结,但不是随便两个

在一块硅片上做出三层杂质半导体:两边是同一种,中间夹一层另一种。

  • 两边 N、中间 P → NPN 型;
  • 两边 P、中间 N → PNP 型。

三层之间形成两个靠得极近的 PN 结。每层各引出一个电极,于是有三个脚。

2.2 结构图与符号

BJT 的结构示意与电路符号NPN 型N+PN发射区掺杂最浓基区很薄、掺杂淡集电区面积大ecbPNP 型P+NP发射区掺杂最浓基区很薄、掺杂淡集电区面积大ecb发射结集电结发射结集电结cebNPN:箭头朝外箭头在发射极上cebPNP:箭头朝里箭头在发射极上

图 1:上半部分是 NPN、PNP 管的结构示意("N+"表示掺杂很浓的 N 区),下半部分是电路符号

逐行拆解:

名称 是什么 特点(重要!)
发射区,引出发射极 e(emitter) 一侧的杂质区 掺杂浓度最高,负责"发射"大量载流子
基区,引出基极 b(base) 中间那一层 很薄(微米级)、掺杂浓度很低
集电区,引出集电极 c(collector) 另一侧的杂质区 与发射区同类型,但掺杂比发射区淡,集电结面积大,便于"收集"
发射结 发射区与基区之间的 PN 结 —
集电结 集电区与基区之间的 PN 结 —

符号怎么认:符号里带箭头的那条腿是发射极;箭头方向表示发射结正偏时发射极电流的实际方向,也就是从 P 指向 N:

  • NPN:箭头朝外(电流从 e 流出)。口诀:"NPN,箭头Never in(不进去)",或者"NPN 箭头往外跑";
  • PNP:箭头朝里(电流从 e 流入)。口诀:"PNP,Pointing in(指进去)"。

2.3 为什么不能用两个二极管拼一个三极管?

这是教材的复习思考题,也是很好的面试/简答题。答案就在上表的"特点"一栏:

  1. 三极管能放大,靠的是基区很薄:发射区送进基区的载流子,几乎还没来得及复合就跑到了集电结边上,被集电区"抓走"。两只独立的二极管中间隔着导线和两块很厚的半导体,载流子根本"跑不过去",两个结之间没有这种相互作用。
  2. 发射区要掺杂最浓,才能"发射"出足够多的载流子;集电结面积大,才方便"收集"。

同理,发射极 e 和集电极 c 也不能互换使用:它们虽然是同类型半导体,但掺杂浓度和面积都不对称。硬要倒过来用(叫"倒置"状态),电流放大系数会小得多。

2.4 例题

例题 1(概念):判断对错并说明理由。(1) NPN 管的发射区和集电区都是 N 型,所以 e、c 可以互换。(2) 基区做得越厚,三极管放大能力越强。

解:(1) 错。两区虽同为 N 型,但发射区掺杂浓度远高于集电区,集电结面积又大于发射结,结构不对称,互换后放大能力大大下降。(2) 错。基区越厚,载流子在基区复合的机会越多,能到达集电区的越少,放大能力反而越差。基区"薄而淡"才是放大的关键。

⚠️ 易错点:

  1. 符号上的箭头只画在发射极上,不是集电极。画电路时箭头画错一个方向,NPN 就变成 PNP 了。
  2. "N+"里的"+"表示重掺杂,不是"带正电"。

三、放大的外部条件:发射结正偏、集电结反偏 ⭐⭐⭐

3.1 大白话

三极管里有两个结,每个结都可以"正偏"(P 端电位高于 N 端)或"反偏"(P 端电位低于 N 端)。两个结、两种偏置,就有 4 种组合。要让三极管当"水龙头"——放大——必须是这一种:

发射结正偏(打开"发射"的阀门),集电结反偏(集电结的内电场像一个强力吸尘器,把跑到边上的载流子吸过去)。

另外几种组合对应"饱和""截止"等状态,第 04 讲(下)专门讲怎么判断。

3.2 换成电位关系(必背)

以 NPN 为例:发射结 = 基区(P)+发射区(N)。正偏要求 P 端电位高,即VB>VEV_B>V_E⁠,而且要高出一个导通电压(硅管约 0.7 V)。集电结 = 基区(P)+集电区(N)。反偏要求 N 端电位高,即VC>VBV_C>V_B⁠。合起来:

NPN 放大:VC>VB>VE\text{NPN 放大:}\quad V_C>V_B>V_E

PNP 正好全反过来(P、N 互换,所有电位关系反号):

PNP 放大:VC<VB<VE\text{PNP 放大:}\quad V_C<V_B<V_E

逐行拆解:

  • VCV_C⁠、VBV_B⁠、VEV_E⁠:集电极、基极、发射极对地的电位(单位 V);
  • VBE=VB−VEV_{BE}=V_B-V_E⁠:发射结电压。放大时硅管∣VBE∣≈0.6∼0.7 V|V_{BE}|\approx0.6\sim0.7\ \text{V}⁠,锗管∣VBE∣≈0.2∼0.3 V|V_{BE}|\approx0.2\sim0.3\ \text{V}⁠;
  • 不管 NPN 还是 PNP,放大时基极电位总在中间——这是"认管脚"的突破口(见第五节)。

记忆方法:NPN 是"C 最高、E 最低",PNP 是"E 最高、C 最低",基极永远夹在中间。

3.3 例题

例题 2:一只硅 NPN 管处于放大状态,测得VE=2 VV_E=2\ \text{V}⁠。VBV_B约是多少?VCV_C至少要满足什么条件?

解:发射结正偏且硅管VBE≈0.7 VV_{BE}\approx0.7\ \text{V}⁠,所以VB≈2+0.7=2.7 VV_B\approx2+0.7=2.7\ \text{V}⁠。集电结反偏要求VC>VBV_C>V_B⁠,即VC>2.7 VV_C>2.7\ \text{V}(实际电路里通常高出好几伏)。

⚠️ 易错点:PNP 管的电位关系全部反过来,不少同学只记了 NPN,一遇到 PNP 题(电位常常是负数)就判断错。遇到负电位,先在草稿上把三个电位从高到低排好队,再套"谁在中间谁是基极"。


四、内部发生了什么:发射、复合、收集 ⭐⭐

4.1 大白话:一群人穿过一条很窄的走廊

想象发射区是一个挤满了人(电子)的大厅,基区是一条又窄又短的走廊,集电区是走廊另一头的大广场,广场入口站着一排"拉人的保安"(集电结的反偏电场)。

  1. 发射:发射结正偏,相当于打开大厅的门,人潮涌入走廊;
  2. 复合:走廊里有少量"空位"(空穴),极少数人在走廊里"坐下"了(和空穴复合),不再往前走;
  3. 收集:绝大多数人很快走到走廊尽头,被保安一把拉进广场。

因为走廊(基区)又窄又空(薄、掺杂淡),能"坐下"的人极少——这就是三极管放大能力的来源。

4.2 动画

放大状态下 NPN 管内部载流子的传输发射区 N+基区 P集电区 N+VEE+VCC发射结正偏集电结反偏IEICIB电子空穴被复合的电子① 发射:电子大批扩散进基区② 复合:极少数在基区复合③ 收集:被反偏的集电结拉进集电区

图 2:放大状态下 NPN 管的内部载流子传输。蓝点是电子,大多数穿过基区进入集电区;红点表示少数在基区被复合的电子(动画循环播放)

4.3 三步对应的三股电流

下面用 NPN 管来说(PNP 管只要把"电子"和"空穴"对调、电流方向全部反过来)。

① 发射区向基区注入电子 → 发射极电流IEI_E

发射结正偏,发射区的大量多子(电子)扩散进基区。基区的空穴也会往发射区扩散一点,但基区掺杂很淡,这部分很小,可以忽略。教材写成:IEI_E受VBEV_{BE}控制,且与VBEV_{BE}呈指数关系:

IE≈IES eVBE/VTI_E\approx I_{ES}\,e^{V_{BE}/V_T}
  • IESI_{ES}⁠:发射结的反向饱和电流,极小(⁠10−12∼10−15 A10^{-12}\sim10^{-15}\ \text{A}⁠);
  • VTV_T⁠:温度的电压当量,读"V-T",常温下VT≈26 mVV_T\approx26\ \text{mV}⁠。

这条式子告诉你:VBEV_{BE}稍微变一点点,IEI_E就变很多。这一点在第 05 讲(下)推导rber_{be}时要用。(指数式本身了解即可,考试不要求推导。)

② 电子在基区复合 → 基区复合电流IBNI_{BN}(是基极电流的主要部分)

进入基区的电子边扩散边有少量与空穴复合。被复合掉的空穴由外电源从基极补充,形成基极电流的主要部分。基区薄且淡,所以这部分很小。

③ 集电区收集电子 → 集电极电流ICI_C

集电结反偏,内电场很强,把扩散到集电结边上的电子迅速"拉"进集电区,形成ICNI_{CN}⁠。另外,集电结反偏本身还有一股很小的少子漂移电流ICBOI_{CBO}(读"I-C-B-O",集电极-基极反向饱和电流),它不受VBEV_{BE}控制,对放大没贡献,但对温度很敏感。所以:

IC=ICN+ICBOI_C=I_{CN}+I_{CBO}

三股电流的总账(KCL):把整个三极管看成一个节点,流进的等于流出的。对 NPN,IBI_B⁠、ICI_C流入,IEI_E流出:

IE=IB+ICI_E=I_B+I_C

这条式子对 NPN、PNP 都成立,任何工作状态下都成立(它只是 KCL)。

4.4 答题模板:简述 BJT 的放大原理(简答题直接套)

考纲原文要求"基本结构和工作原理",简答题最可能这样问:"简述 BJT 实现电流放大的内部条件和外部条件"或"说明 NPN 管放大时内部载流子的传输过程"。按下面四句话答,结构清楚、关键词齐全:

  1. 内部条件(结构):发射区掺杂浓度最高;基区很薄且掺杂浓度很低;集电结面积大。
  2. 外部条件(偏置):发射结正偏、集电结反偏(NPN:VC>VB>VEV_C>V_B>V_E⁠;PNP:VC<VB<VEV_C<V_B<V_E⁠)。
  3. 传输过程:发射区向基区注入大量多子形成IEI_E⁠;注入的载流子在基区少量复合形成IBI_B的主要部分;绝大部分扩散到集电结边缘,被反偏集电结的电场拉入集电区形成ICI_C⁠。
  4. 结论:IE=IB+ICI_E=I_B+I_C⁠,IC≈βIBI_C\approx\beta I_B⁠;基极电流的微小变化控制集电极电流的较大变化,所以 BJT 是电流控制器件(本质上ICI_C受发射结电压VBEV_{BE}控制)。

变式:问 PNP 管时,把"电子"换成"空穴"、电流方向全部反过来,第 2 条写成VE>VB>VCV_E>V_B>V_C即可。

⚠️ 易错点:

  1. 电子的运动方向和电流方向相反。图 2 中电子从左往右跑,电流ICI_C⁠、IEI_E的实际方向是从右往左(流进集电极、流出发射极)。
  2. "发射结正偏、集电结反偏"是放大的条件;这一节的"发射—复合—收集"过程也只描述放大状态。

五、电流分配关系:α\alpha与β\beta ⭐⭐⭐

5.1 大白话

上一节说"绝大多数电子被收集,极少数被复合"。把"多少比例"量化,就得到两个放大系数:

  • 站在发射极看:发射出去的电子里,有多少比例到了集电极?——这是α\alpha⁠;
  • 站在基极看:基极每"花"1 份电流,集电极能"换"来多少份?——这是β\beta⁠。

5.2 公式

共基极直流电流放大系数 αˉ\bar\alpha(读"阿尔法拔"):

αˉ=ICNIE\bar\alpha=\frac{I_{CN}}{I_E}

它表示IEI_E中转化为ICNI_{CN}的比例,略小于 1,一般在 0.98 以上。于是IC=αˉIE+ICBO≈αˉIEI_C=\bar\alpha I_E+I_{CBO}\approx\bar\alpha I_E⁠。

共射极直流电流放大系数 βˉ\bar\beta(读"贝塔拔"):把IE=IB+ICI_E=I_B+I_C代进去整理,得到

IC=βˉIB+ICEOI_C=\bar\beta I_B+I_{CEO} βˉ=αˉ1−αˉ,ICEO=(1+βˉ)ICBO\bar\beta=\frac{\bar\alpha}{1-\bar\alpha},\qquad I_{CEO}=(1+\bar\beta)I_{CBO}
  • ICEOI_{CEO}(读"I-C-E-O"):基极开路时从集电极穿过基区流到发射极的电流,叫穿透电流。它是ICBOI_{CBO}的(1+βˉ)(1+\bar\beta)倍,所以比ICBOI_{CBO}大得多,但小功率硅管里仍只有微安级。
  • 忽略ICEOI_{CEO}时,最常用的三条关系:
IC≈βˉIB,IE=(1+βˉ)IB,IC≈αˉIEI_C\approx\bar\beta I_B,\qquad I_E=(1+\bar\beta)I_B,\qquad I_C\approx\bar\alpha I_E

反过来由β\beta求α\alpha⁠:αˉ=βˉ1+βˉ\bar\alpha=\dfrac{\bar\beta}{1+\bar\beta}⁠。

逐行拆解:

  • 为什么β\beta这么大?因为α\alpha非常接近 1,分母1−α1-\alpha很小。α=0.98\alpha=0.98时β=49\beta=49⁠;α=0.99\alpha=0.99时β=99\beta=99⁠。α\alpha只差 0.01,β\beta就翻了一倍。
  • 带横线的βˉ\bar\beta⁠、αˉ\bar\alpha是直流放大系数;不带横线的β=ΔiCΔiB\beta=\dfrac{\Delta i_C}{\Delta i_B}⁠、α=ΔiCΔiE\alpha=\dfrac{\Delta i_C}{\Delta i_E}是交流放大系数(看变化量之比)。特性曲线平坦且间距均匀时两者近似相等,做题时一般混用,统一写β\beta。第 04 讲(下)会再讲。
  • 小功率管的β\beta通常在 50~200 之间;同一型号的管子β\beta也有分散性。

一句话记住:IEI_E最大、ICI_C稍小、IBI_B很小;ICI_C是IBI_B的β\beta倍,IEI_E是IBI_B的(1+β)(1+\beta)倍。

5.3 例题

例题 3:某 NPN 管工作在放大状态,测得IB=20 μAI_B=20\ \mu\text{A}⁠,IC=1.6 mAI_C=1.6\ \text{mA}⁠,忽略ICEOI_{CEO}⁠。求IEI_E⁠、β\beta⁠、α\alpha⁠。

解:

第 1 步,统一单位:20 μA=0.02 mA20\ \mu\text{A}=0.02\ \text{mA}⁠。

第 2 步,KCL:

IE=IB+IC=0.02+1.6=1.62 mAI_E=I_B+I_C=0.02+1.6=1.62\ \text{mA}

第 3 步,电流放大系数:

β=ICIB=1.6 mA0.02 mA=80\beta=\frac{I_C}{I_B}=\frac{1.6\ \text{mA}}{0.02\ \text{mA}}=80 α=ICIE=1.61.62≈0.9877\alpha=\frac{I_C}{I_E}=\frac{1.6}{1.62}\approx0.9877

第 4 步,用公式互相检验:β1+β=8081≈0.9877\dfrac{\beta}{1+\beta}=\dfrac{80}{81}\approx0.9877⁠,与第 3 步一致。

例题 4:已知α\alpha分别为 0.98、0.99、0.995,求对应的β\beta⁠。

解:β=α1−α\beta=\dfrac{\alpha}{1-\alpha}⁠:

α\alpha 1−α1-\alpha β\beta
0.98 0.02 49
0.99 0.01 99
0.995 0.005 199

可见α\alpha越接近 1,β\beta越大,而且非常"敏感"。

例题 5:某硅管β=100\beta=100⁠,ICBO=0.1 μAI_{CBO}=0.1\ \mu\text{A}⁠。(1) 求穿透电流ICEOI_{CEO}⁠;(2) 若IB=20 μAI_B=20\ \mu\text{A}⁠,求ICI_C(不忽略ICEOI_{CEO}⁠)。(3) 某锗管β=50\beta=50⁠、ICBO=10 μAI_{CBO}=10\ \mu\text{A}⁠,ICEOI_{CEO}又是多少?

解:

(1) ICEO=(1+β)ICBO=101×0.1 μA=10.1 μAI_{CEO}=(1+\beta)I_{CBO}=101\times0.1\ \mu\text{A}=10.1\ \mu\text{A}⁠。

(2) IC=βIB+ICEO=100×20 μA+10.1 μA=2010.1 μA≈2.01 mAI_C=\beta I_B+I_{CEO}=100\times20\ \mu\text{A}+10.1\ \mu\text{A}=2010.1\ \mu\text{A}\approx2.01\ \text{mA}⁠。ICEOI_{CEO}只占约 0.5%,所以平时可以忽略。

(3) ICEO=51×10 μA=510 μA=0.51 mAI_{CEO}=51\times10\ \mu\text{A}=510\ \mu\text{A}=0.51\ \text{mA}⁠。锗管的穿透电流大得多,而且随温度变化剧烈,这就是温度变化大的场合选硅管的原因。

⚠️ 易错点:

  1. IE=(1+β)IBI_E=(1+\beta)I_B里是1+β1+\beta⁠,不是β\beta⁠。β=80\beta=80时两者只差 1.25%,粗算可近似IE≈ICI_E\approx I_C⁠,但写公式时不能写错。
  2. 单位:μA\mu\text{A}与mA\text{mA}差 1000 倍,算β\beta前一定先统一。

六、根据测量结果认管脚、判管型 ⭐⭐⭐

这是教材习题 5.1.1、5.1.2 的题型,也是"判断 BJT 状态"这一类题的热身。

6.1 已知三个电极的电位(管子在放大状态)

三步法:

  1. 排队找基极:三个电位从高到低排好,中间那个是基极 b;
  2. 看差值找发射极:与基极相差 0.6~0.7 V 的是发射极(硅管);相差 0.2~0.3 V 的是发射极(锗管)。剩下那个是集电极 c;
  3. 看集电极定管型:集电极电位最高 → NPN;集电极电位最低 → PNP。

例题 6:两只处于放大状态的 BJT,测得三个管脚对地电位如下。判断各管脚名称、管型和材料。 (1) ①3.5 V,②2.8 V,③12 V;(2) A:−6 V,B:−2.3 V,C:−2.0 V。

解:

(1) 排队:12 V(③)> 3.5 V(①)> 2.8 V(②)。中间的①是 b。②与①相差 0.7 V → ②是 e,硅管。③是 c,且电位最高 → NPN。

(2) 排队:−2.0 V(C)> −2.3 V(B)> −6 V(A)。中间的 B 是 b。C 与 B 相差 0.3 V → C 是 e,锗管。A 是 c,电位最低 → PNP。核对:PNP 放大要求VC<VB<VEV_C<V_B<V_E⁠,即−6<−2.3<−2.0-6<-2.3<-2.0 ✓。

6.2 已知三个电极的电流

方法:

  1. 电流最大的是发射极 e,最小的是基极 b,剩下的是集电极 c(因为IE=IB+ICI_E=I_B+I_C⁠,IBI_B最小);
  2. 看方向:NPN 的 b、c 电流流入、e 电流流出;PNP 正好相反;
  3. β=IC/IB\beta=I_C/I_B⁠。

例题 7:某放大电路中 BJT 三个管脚 X、Y、Z 的电流(以流入管子为正)为IX=+3 mAI_X=+3\ \text{mA}⁠,IY=+0.05 mAI_Y=+0.05\ \text{mA}⁠,IZI_Z未测出。求IZI_Z⁠,判断管脚、管型并求β\beta⁠。

解:

第 1 步,KCL:流入管子的电流总和为 0,IZ=−(3+0.05)=−3.05 mAI_Z=-(3+0.05)=-3.05\ \text{mA}⁠,即 3.05 mA 流出。

第 2 步,Z 电流最大 → e;Y 最小 → b;X → c。

第 3 步,b、c 流入,e 流出 → NPN。

第 4 步,β=ICIB=30.05=60\beta=\dfrac{I_C}{I_B}=\dfrac{3}{0.05}=60⁠。

⚠️ 易错点:

  1. 电位法的前提是"管子在放大状态"。如果题目没说放大、或者是"判断工作状态",就不能用"中间的是基极"这一招(第 04 讲下讲)。
  2. 电位差 0.6~0.7 V 还是 0.2~0.3 V,决定硅还是锗,别把这一问漏答。

七、三种连接方式,以及"放大电压"是怎么实现的 ⭐⭐

7.1 三种连接方式

三极管有三个脚,而放大电路要有一个输入端口(两根线)和一个输出端口(两根线),所以必须让一个电极同时属于输入和输出,叫"公共端"。哪个极当公共端,就叫"共什么极":

BJT 的三种连接方式共发射极(共射)入出++发射极 e 是公共端bce共集电极(共集)入出++VCC(交流地)集电极 c 是公共端(交流)bce共基极(共基)入出++基极 b 是公共端ecb

图 3:三种连接方式。共射:b 入、c 出,e 公共;共集:b 入、e 出,c 公共(对交流信号而言VCCV_{CC}相当于接地);共基:e 入、c 出,b 公共

不管哪种连接方式,要放大都必须保证发射结正偏、集电结反偏,内部的载流子过程和电流分配关系完全相同。三种连接方式的性能差别在第 05、07 讲详细比较。

7.2 电流放大怎样变成电压放大?

三极管直接放大的是电流(⁠ICI_C受IBI_B或IEI_E控制)。要得到电压放大,只要让变化的集电极电流流过一个电阻:

ΔvO=ΔiC×RL\Delta v_O=\Delta i_C\times R_L

例题 8(教材图 5.1.6 的数据):一个共基极接法的放大电路,在发射结回路加入ΔvI=20 mV\Delta v_I=20\ \text{mV}的信号,由于发射结正向电压对电流的控制非常灵敏,引起ΔiE=1 mA\Delta i_E=1\ \text{mA}⁠。设α=0.98\alpha=0.98⁠,集电极负载电阻RL=1 kΩR_L=1\ \text{k}\Omega⁠。求输出电压变化量和电压增益。

解:

第 1 步,集电极电流变化量:ΔiC=αΔiE=0.98×1 mA=0.98 mA\Delta i_C=\alpha\Delta i_E=0.98\times1\ \text{mA}=0.98\ \text{mA}⁠。

第 2 步,输出电压变化量:ΔvO=ΔiCRL=0.98 mA×1 kΩ=0.98 V\Delta v_O=\Delta i_C R_L=0.98\ \text{mA}\times1\ \text{k}\Omega=0.98\ \text{V}⁠。

第 3 步,电压增益(输出变化量 ÷ 输入变化量,第 01 讲(下)学过):

Av=ΔvOΔvI=0.98 V0.02 V=49A_v=\frac{\Delta v_O}{\Delta v_I}=\frac{0.98\ \text{V}}{0.02\ \text{V}}=49

输入只变了 20 mV,输出变了将近 1 V,放大了 49 倍。

例题 8′(自编):同样结构,若ΔvI=10 mV\Delta v_I=10\ \text{mV}引起ΔiE=0.5 mA\Delta i_E=0.5\ \text{mA}⁠,α=0.99\alpha=0.99⁠,RL=2 kΩR_L=2\ \text{k}\Omega⁠,求AvA_v⁠。

解:ΔiC=0.99×0.5=0.495 mA\Delta i_C=0.99\times0.5=0.495\ \text{mA}⁠,ΔvO=0.495×2=0.99 V\Delta v_O=0.495\times2=0.99\ \text{V}⁠,Av=0.990.01=99A_v=\dfrac{0.99}{0.01}=99⁠。

注意这里"放大"的真正含义:输出的那 1 V 变化,能量来自集电极电源VCCV_{CC}⁠,不是信号源"变大了"。三极管只是按输入信号的规律去"控制"电源能量——和水龙头一模一样。教材原话:"放大作用实质上是放大器件的控制作用,放大器是一种能量控制部件"。

⚠️ 易错点:共基极接法的电流增益α<1\alpha<1⁠,并不放大电流,但照样能放大电压——因为输入端(发射结)电压很小却能控制较大的电流,输出端又接了较大的电阻。别以为"α<1\alpha<1就不能放大"。


速记卡

项目 内容
两种类型 NPN(符号箭头朝外)、PNP(箭头朝里),箭头在发射极
三区特点 发射区掺杂最浓;基区很薄、掺杂很淡;集电结面积大
放大的外部条件 发射结正偏、集电结反偏
放大时电位 NPN:VC>VB>VEV_C>V_B>V_E⁠;PNP:VC<VB<VEV_C<V_B<V_E⁠;基极永远在中间
导通压降 硅∣VBE∣≈0.6∼0.7\lvert V_{BE}\rvert\approx0.6\sim0.7 V,锗0.2∼0.30.2\sim0.3 V
内部三步 发射 → 复合(很少)→ 收集
电流关系 IE=IB+ICI_E=I_B+I_C(永远成立);放大时IC≈βIBI_C\approx\beta I_B⁠,IE=(1+β)IBI_E=(1+\beta)I_B
α\alpha与β\beta β=α1−α\beta=\dfrac{\alpha}{1-\alpha}⁠,α=β1+β\alpha=\dfrac{\beta}{1+\beta}⁠;α≈0.98∼0.995\alpha\approx0.98\sim0.995
反向电流 ICEO=(1+β)ICBOI_{CEO}=(1+\beta)I_{CBO}(穿透电流),越小越好,硅管远小于锗管
认管脚(电位) 中间是 b;差 0.7 V 是 e(硅)/差 0.3 V(锗);c 最高 → NPN,c 最低 → PNP
认管脚(电流) 最大是 e、最小是 b;b、c 流入 → NPN
三种接法 共射(e 公共)、共集(c 公共)、共基(b 公共)
放大的本质 小信号控制电源能量,ΔvO=ΔiCRL\Delta v_O=\Delta i_C R_L
符号约定 IBI_B直流、ibi_b交流、iBi_B总量、IbI_b交流有效值/幅值

自测练习

1.(基础)BJT 的基区为什么要做得很薄、掺杂很淡?发射区为什么掺杂要很浓?

答案与提示

基区薄、淡 → 从发射区注入的载流子在基区复合的机会少,绝大部分能到达集电结被收集,α\alpha接近 1、β\beta大。发射区掺杂浓 → 发射结正偏时能注入大量载流子,同时基区向发射区的反向注入相对很小,提高发射效率。

2.(计算)放大状态的 NPN 管,IB=20 μAI_B=20\ \mu\text{A}⁠,IE=2 mAI_E=2\ \text{mA}⁠。求ICI_C⁠、β\beta⁠、α\alpha⁠。

答案与提示

IC=IE−IB=2−0.02=1.98 mAI_C=I_E-I_B=2-0.02=1.98\ \text{mA}⁠;β=1.98/0.02=99\beta=1.98/0.02=99⁠;α=1.98/2=0.99\alpha=1.98/2=0.99⁠。核对:99/100=0.9999/100=0.99 ✓。

3.(计算)某管β=150\beta=150⁠,求α\alpha(保留 4 位小数)。

答案与提示

α=β1+β=150151≈0.9934\alpha=\dfrac{\beta}{1+\beta}=\dfrac{150}{151}\approx0.9934⁠。

4.(计算)测得放大状态下IE=2.5 mAI_E=2.5\ \text{mA}⁠、IB=25 μAI_B=25\ \mu\text{A}⁠,求ICI_C和β\beta⁠。

答案与提示

IC=2.5−0.025=2.475 mAI_C=2.5-0.025=2.475\ \text{mA}⁠,β=2.475/0.025=99\beta=2.475/0.025=99⁠。注意不要直接用IE/IB=100I_E/I_B=100当β\beta⁠,那是1+β1+\beta⁠。

5.(判断)两只放大状态的 BJT,测得管脚电位:(1) ①9 V,②4.7 V,③4.0 V;(2) ①−8 V,②−1.0 V,③−0.3 V。判断管脚、管型、材料。

答案与提示

(1) 中间值 4.7 V → ②是 b;③与②差 0.7 V → ③是 e,硅管;①是 c,电位最高 → NPN 硅管。 (2) 排队 −0.3 > −1.0 > −8,中间 −1.0 V → ②是 b;③与②差 0.7 V → ③是 e,硅管;①是 c,电位最低 → PNP 硅管。核对VC<VB<VEV_C<V_B<V_E⁠:−8<−1<−0.3-8<-1<-0.3 ✓。

6.(计算)某硅管β=80\beta=80⁠,ICBO=0.2 μAI_{CBO}=0.2\ \mu\text{A}⁠,求ICEOI_{CEO}⁠。温度升高后ICBOI_{CBO}增大,ICEOI_{CEO}会怎样变?

答案与提示

ICEO=(1+80)×0.2=16.2 μAI_{CEO}=(1+80)\times0.2=16.2\ \mu\text{A}⁠。温度升高时ICBOI_{CBO}增大(教材:大约每升高 10 ℃ 增加一倍),而且β\beta也会增大,所以ICEOI_{CEO}增大得更厉害,会使ICI_C随温度漂移——这就是第 06 讲要解决的"静态工作点不稳定"问题的根源之一。

7.(简答,华师真题风格)(1) 能否用两只二极管背靠背连接来代替一只 BJT?(2) 要让 BJT 工作在放大状态,外部需要满足什么条件?对 PNP 管,三个电极电位应满足什么关系?

答案与提示

(1) 不能。BJT 的放大作用依赖于很薄、掺杂很淡的基区,使发射区注入的载流子大部分能穿过基区被集电区收集;两只分立二极管之间没有这样的薄基区,载流子无法从一个结"传"到另一个结,没有电流放大作用。 (2) 发射结正偏、集电结反偏。PNP 管:VE>VB>VCV_E>V_B>V_C(即VC<VB<VEV_C<V_B<V_E⁠),且VE−VBV_E-V_B约为导通电压(硅约 0.7 V)。


下一讲预告

第 04 讲(下)画出 BJT 的输入、输出特性曲线,认识放大、饱和、截止三个区,并学会一套"三步口诀"判断三极管到底工作在哪个状态——这正是 2026 回忆题 1(3) 考的内容。

👉 点击进入下一讲:第04讲(下)|BJT 的特性曲线、参数与三种工作状态的判断

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